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4.2、系統(tǒng)設(shè)置4、2 1。在電子工程中.依廢氣污染處理方式通常將工藝廢氣劃分為酸性廢氣,堿性廢氣 有機。VOCs、廢氣,苯類廢氣,含塵廢氣,焊錫煙氣、有毒廢氣等。酸性廢氣主要來源于.使用氫氟酸.鹽酸.硫酸.硝酸，磷酸等各種酸液對制造電子元件、電子器件的材料、加工件 零部件進行酸腐蝕、氧化。拋光的表面處理.對芯片進行表面清洗，芯片外延。擴散、干刻。金屬化 CVD等酸性工藝尾氣。多晶硅制備的還原.熱分解工藝尾氣,氰化銀。金電鍍工藝等、主要污染物為氟化物。氯化氫、硫酸霧.氮氧化物.氯氣.氰化氫等、硝酸霧實際上是以氮氧化物、NOx、形式存在。其中主要是二氧化氮,NO2、和三氧化二氮，N2O3.堿性廢氣主要來源于.脫脂.刻蝕,剝膜、擴散,清洗、外延 化學(xué)氣相沉積、熱分解等工序使用堿液 NaOH.Na2CO3.氨氣。氨水、有機胺類溶劑。主要污染物為氨氣,NH3、惡臭 胺類污染物如乙胺.乙二醇胺,二乙基羥胺等，有機廢氣主要來源于.表面涂層工藝，電子元器件 電子組件 電路板組件 整機機殼等 使用溶劑型涂料 表面清洗工藝,包括芯片清洗。電子組件清洗.電路板清洗等。使用有機脫脂劑 脫水劑,感光成像工藝中的光刻膠稀釋劑.顯影劑,脫膠劑.液態(tài)阻焊膜劑 去膜劑等使用有機溶劑，涉及的揮發(fā)性有機化合物常見的有甲醇，乙醇，異丙醇，IPA 乙二醇，丙酮,丁酮,甲基乙基酮，環(huán)戊酮、甲基異丁基酮.MIBK.環(huán)已酮 醋酸乙酯。醋酸丁酯.醋酸戊酯.三氯乙烯 二氯甲烷,丙二醇甲基醚。PGEM、丙二醇甲基醚酯,PGEMA 乙二醇乙醚。乙二醇丁醚、乙醇胺、光刻膠等30多種.其中主要是以150，以下的低沸點有機溶劑為主，用于清洗劑.稀釋劑。去光刻膠類化合物如DMSO,MEA,NMP.DMAC DGA則屬于高沸點的硫類和胺類之有機溶劑，且具有惡臭。主要污染物為非甲烷總烴、碳,苯類廢氣主要來源于.電子產(chǎn)品外殼表面噴漆 電路板組件三防噴漆、零部件浸漆 如變壓器等.漆包線包漆等表面涂裝作業(yè)使用各種油漆和稀釋料。主要污染物為苯。甲苯.二甲苯和非甲烷總烴。碳。含塵廢氣主要來源于、電子產(chǎn)品外殼表面噴塑作業(yè)使用樹脂粉末涂料工藝，電路板機加工工藝,光電器件的玻璃基板劃線.去邊 切割工序等、主要污染物為顆粒物、焊錫煙氣主要來源于.微電子組裝。電路板組裝.線路板熱風(fēng)整平等工藝中使用錫焊料、助焊劑，在熔化溫度 220.275，下。除揮發(fā)出松香樹脂等煙塵微粒外.還含有微量鉛.錫金屬煙塵 蒸氣 CO、CO2。乙醇溶劑等有害氣體、主要污染物為鉛和鉛化合物 錫和錫化合物.有毒廢氣。毒性工藝尾氣 主要來源于,半導(dǎo)體器件制造的氧化。干法蝕刻 外延，擴散,離子注入摻雜?；瘜W(xué)氣相沉積。CVD、金屬化等工序。光電子器件制造的磊晶,薄膜生長.干法蝕刻。CVD等工序、使用多種高純特殊工藝氣體如SiH4,硅烷 SiH3CH3 甲基硅烷,SiCl4，SiHCl3,三氯硅烷簡稱TCS,SiH2Cl2,二氯硅烷簡稱DCS，SiF4，CF4.全氟甲烷、CHF3.氟甲烷，C2H2F6，WF6，SF6.NF3。BFl3,BCl3.PH3、磷化氫.AsH3。砷化氫。GeH3。鍺烷.HBr等。1、不相容 原則是指兩種或幾種物質(zhì)混合能引起燃燒。爆炸或形成危害更大的物質(zhì),例如SiH4和NF3相混合有發(fā)生爆炸和火災(zāi)的可能性 按，不相容。的原則、需要分別設(shè)計獨立的收集系統(tǒng)與凈化系統(tǒng) 酸性廢氣與堿性，氨.廢氣宜分別設(shè)計獨立的收集系統(tǒng)與凈化系統(tǒng).以避免因酸堿氣體混流產(chǎn)生如氯化銨微粒子形成白煙，處理效率下降。增設(shè)除霧器可以改善處理效率、2、本款為強制性條文 由于有毒廢氣毒性大。同時亦有高度的腐蝕性和爆炸性、因此作為安全生產(chǎn)的必要條件.這類有毒氣體應(yīng)受到嚴(yán)格管理、污染處理系統(tǒng)獨立設(shè)置、并且各企業(yè)生產(chǎn)過程中一般都設(shè)有在線報警裝置，4.2 2.本條是關(guān)于廢氣污染防治末端處理系統(tǒng)的集氣罩.排風(fēng)量的規(guī)定 密閉式集氣罩的設(shè)置，是為了盡可能多的捕集污染物.達(dá)到無明顯的無組織排放源、合理的吸氣口位置 結(jié)構(gòu)和風(fēng)速、易于使集氣罩內(nèi)形成均勻負(fù)壓 以防止有毒有害氣體外泄。系統(tǒng)排風(fēng)量也不宜過大。系統(tǒng)排風(fēng)量過大。既增加了能耗也不利于廢氣處理凈化效率。因此需要合理計算集氣口面積、系統(tǒng)風(fēng)量，有條件時，可采用實測數(shù)據(jù).集氣罩吸氣口的布置.應(yīng)充分利用氣流的運動作用 防止集氣罩周圍的紊流 盡可能避免或減弱干擾氣流.穿堂風(fēng)和送風(fēng)氣流等對吸氣氣流的影響.排風(fēng)量應(yīng)滿足現(xiàn)行國家標(biāo)準(zhǔn)。工業(yè)企業(yè)衛(wèi)生設(shè)計標(biāo)準(zhǔn),GBZ 1的相關(guān)要求。并使作業(yè)場所有毒有害物質(zhì)濃度達(dá)到現(xiàn)行國家標(biāo)準(zhǔn) 工作場所有害因素職業(yè)接觸限值，GBZ 2的要求，4 2，3.本條是關(guān)于排風(fēng)系統(tǒng)管路配置的規(guī)定。1，應(yīng)按照廢氣性質(zhì)和廢氣溫度、并考慮耐酸。耐堿，抗腐蝕。耐高溫、防火等特性.對排風(fēng)系統(tǒng)管路材質(zhì)進行選擇、2.管路內(nèi)易形成積液的排風(fēng)系統(tǒng),其排風(fēng)管道應(yīng)采取可靠的密封措施.防止積液從管道接口等處滲漏，影響生產(chǎn)、管道應(yīng)設(shè)置一定的坡度.坡向低點。并在低點設(shè)置排液收集口。排液應(yīng)排至相應(yīng)的廢水收集和處理系統(tǒng)。3。本款的目的是防止粉塵沉積在產(chǎn)塵源處和管道內(nèi)，6、為了得到較高的煙氣臺升高度。使排放的氣體迅速擴散至大氣中 防止排，煙 氣下沉.排氣筒出口排，煙、氣流速不得低于該排氣筒出口處環(huán)境大氣平均風(fēng)速的1.5倍、并不宜小于15m，s。4、2.4,本條是關(guān)于廢氣凈化系統(tǒng)選擇的規(guī)定。針對電子工程產(chǎn)生的廢氣.以下列舉國內(nèi)外一般所采取的末端處理方法,1。對酸性廢氣。堿性。含氨。廢氣可采用濕式吸收法處理 處理系統(tǒng)主要由廢氣吸收塔,風(fēng)機。管道和吸收液循環(huán)泵等組成，凈化裝置可選用噴淋吸收塔.填充式洗滌塔.無泵吸收塔，板式吸收塔等,2、對噴漆漆霧廢氣可采用水簾,水洗法處理、廢氣處理系統(tǒng)主要由水簾,水洗式噴漆室 噴漆柜 汽水分離器，風(fēng)機，排氣管。集水池和水循環(huán)泵、或無泵利用風(fēng)機引力 等組成,3,可采用活性炭固定床吸附法處理中 低濃度苯類廢氣,有機廢氣、VOCs、焊錫煙氣、處理工藝可選用半連續(xù)式流程.由預(yù)處理器。除霧器、除濕器,活性炭固定床,蒸汽或熱空氣供給系統(tǒng),溶劑回收裝置,風(fēng)機和溫度探測器等組成，溶劑回收裝置主要由冷凝器和分離器組成。將水和疏水性溶劑分離、并回收有機溶劑。廢水進行處理.對水溶性的溶劑則用精餾的方法進行回收 半連續(xù)式流程可用兩臺活性炭固定床、其中一臺進行吸附操作程序。另一臺進行脫附操作程序，當(dāng)脫附周期大于吸附周期時,則設(shè)計為三臺固定床并聯(lián)。4.可采用直接催化燃燒法處理如漆包線包漆作業(yè)、涂層固化作業(yè)等中、高濃度苯類廢氣,有機廢氣、VOCs。處理流程由預(yù)處理 去除霧滴，顆粒，催化劑敏感有毒物。預(yù)熱器。催化反應(yīng)器,換熱器,阻火器，溫度探測器、風(fēng)機、電控柜和安全報警器等組成 5,可采用活性炭吸附濃縮催化燃燒法處理低濃度苯類廢氣，有機廢氣、VOCs,由預(yù)過濾器、活性炭吸附床 催化燃燒床.熱交換器.阻火器、溫度探測器。風(fēng)機、電控柜和安全報警器等組成 當(dāng)活性炭吸附達(dá)到飽和后,用熱空氣脫附使活性炭得到再生、脫附后的有機溶劑送往催化燃燒床、溫度低于著火點 進行催化燃燒、廢熱氣經(jīng)換熱器又用于加熱空氣對活性炭脫附再生。形成利用廢熱進行吸附 脫附,催化燃燒的廢氣凈化過程.6，可采用轉(zhuǎn)輪濃縮燃燒法，轉(zhuǎn)輪濃縮蓄熱燃燒法,沸石轉(zhuǎn)輪活性炭吸附濃縮燃燒法處理大風(fēng)量低濃度有機廢氣、沸石轉(zhuǎn)輪濃縮燃燒法系統(tǒng)由風(fēng)機、高硅沸石轉(zhuǎn)輪 熱交換器和濃縮氣體燃燒器等組成。轉(zhuǎn)輪由一組電機帶動旋轉(zhuǎn)。通過機械變換控制轉(zhuǎn)速、整個系統(tǒng)通過吸附、解吸、冷卻3個過程。周而復(fù)始 動態(tài)循環(huán)。7 可采用蓄熱燃燒法。RTO。蓄熱式觸媒氧化器 RCO 處理大風(fēng)量低濃度有機廢氣。薔熱燃燒法系統(tǒng)至少包括2個蓄熱床.進氣控制設(shè)備,加熱及溫度控制設(shè)備,蓄熱床內(nèi)填充石質(zhì)或陶瓷蓄熱材料,欲處理的VOCs廢氣先進入一蓄熱床.A床。預(yù)熱至一定溫度.以熱氧化反應(yīng)分解成二氧化碳和水被去除，氧化反應(yīng)后高溫氣體通過另一蓄熱床,B床。時。氣體熱能被原已冷卻的蓄熱材儲存蓄熱 氣體則以較低的安全溫度排放、待一定時間后，欲處理廢氣則導(dǎo)入該高溫床.B床 預(yù)熱.反應(yīng)后高溫氣體熱量則儲存于A床。如此經(jīng)由2個蓄熱床交互切換燃燒與蓄熱 熱回收率95,以上，完成。廢氣預(yù)熱,VOCs燃燒分解，蓄熱降溫排放 的操作循環(huán).8。可采用轉(zhuǎn)輪濃縮.低溫冷凝回收處理如NMP N.甲基吡咯烷酮.DMAC。二甲基乙酰胺 等高沸點的有機溶劑 系統(tǒng)由過濾器,熱交換器，冷卻器，分子篩轉(zhuǎn)輪 再生加熱器。風(fēng)機和溶劑回收罐及循環(huán)冷卻水系統(tǒng)組成，分子篩轉(zhuǎn)輪由電機帶動緩慢旋轉(zhuǎn)經(jīng)過處理區(qū)。冷卻區(qū)和再生區(qū)、周而復(fù)始進行循環(huán),由于流過轉(zhuǎn)輪再生區(qū)的廢氣流量是轉(zhuǎn)輪處理區(qū)的廢氣流量的10，20，廢氣中的有機溶劑濃度被濃縮可達(dá)到20倍 經(jīng)低溫冷凝后回收.9，可采用低溫冷凝回收.吸附濃縮 脫吸、再冷凝回收處理如生產(chǎn)塑料光纖的正丁硫醇 甲基丙烯甲酯 MMA 提純工藝尾氣、樹脂擠出工藝廢氣等有機溶劑類和樹脂類的有機廢氣。VOCs,冷凝回收系統(tǒng)由除霧器.熱交換器。冷凝器 集液槽,活性炭吸附床,分離器.真空泵等組成.10、可采用纖維過濾器 活性炭吸附器處理焊錫煙氣 采用由粗效過濾器 HEPA高密度纖化玻璃過濾材料和活性炭組成的盤式過濾器去除揮發(fā)的松香樹脂等煙塵微粒，錫。鉛金屬煙塵.蒸汽.乙醇溶劑等有害性氣體,組合過濾效率可達(dá)到99.5、以上.11。可采用濾芯回收法處理噴塑含塵廢氣.噴塑廢氣宜采用旋風(fēng)多管濾芯粉末回收循環(huán)系統(tǒng),粉末回收循環(huán)系統(tǒng)由離心風(fēng)機,風(fēng)道和濾網(wǎng)組成 風(fēng)機用來排風(fēng)、也是整個系統(tǒng)氣流流動的動力 風(fēng)道定風(fēng)向 濾網(wǎng)是最后一道防護 分離出粉末的潔凈空氣返回到噴粉室內(nèi)以維持噴粉室的微負(fù)壓、由此不外排廢氣，回收的粉末通過粉泵和篩粉器后再使用 總體粉末回收利用率平均達(dá)到98,其余為樹脂粉末廢渣、12。在電路板機加工如備料、鉆孔、沖切?？滩郏ミ吋肮怆娖骷牟ＡЩ鍎澗€。去邊。切割等工位上應(yīng)設(shè)有局部排風(fēng)集塵系統(tǒng).宜采用袋式除塵器回收粉塵后的廢氣從排氣筒排放.13，對硅烷 磷烷、砷烷,硼烷。溴化氫等特殊有毒廢氣應(yīng)進行。源頭處理,point、of，use。POU。根據(jù)有毒尾氣特性可采用等離子體 三級水洗，電熱氧化.三級水洗。催化分解 三級水洗。高溫燃燒,三級水洗.干式吸附法等、直接在工藝點上配置毒性尾氣處理設(shè)備和控制系統(tǒng),當(dāng)POU系統(tǒng)出現(xiàn)問題時.工藝設(shè)備應(yīng)停止工作 為確保安全、處理后的尾氣應(yīng)再經(jīng)中央濕法洗滌塔進行二次處理.14 對燃?xì)忮仩t煙氣 燃油鍋爐煙氣 可直接采用煙囪排放 由于使用清潔能源,在很多情況下.一般都能滿足現(xiàn)行國家標(biāo)準(zhǔn)，鍋爐大氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn).GB,13271的要求.本條第4款為強制性條文,為了使劇毒廢氣在任何時候都得到有效處理。確保生命安全.因此規(guī)定處理劇毒物質(zhì)的廢氣凈化裝置應(yīng)設(shè)置備用、一般按N、1配置 4 2,5、本條是關(guān)于廢氣凈化設(shè)施布置的一般規(guī)定 4、2 6,本條是關(guān)于排風(fēng)系統(tǒng)風(fēng)機供電負(fù)荷等級的規(guī)定.1。一般排風(fēng)系統(tǒng)風(fēng)機的供電負(fù)荷等級應(yīng)與該系統(tǒng)對應(yīng)的工藝設(shè)備相同,2,本款為強制性條文.之所以規(guī)定、事故排風(fēng)及有毒有害排風(fēng)系統(tǒng)的風(fēng)機必須設(shè)置應(yīng)急電源.是因為該系統(tǒng)風(fēng)機一旦停電 有毒,有害廢氣將得不到及時排除 并可能會擴散至工作場所.對工作人員造成傷害。