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5.電 鍍5,0、1.直流發(fā)電機(jī)組作為電鍍直流電源 運(yùn)行可靠 使用壽命長(zhǎng)。能供給較穩(wěn)定的直流電流.而且過載能力比整流器大。但需要專業(yè)直流發(fā)電機(jī)室.直流輸電線路長(zhǎng)、電能損耗大.效率低。整流設(shè)備與直流發(fā)電機(jī)組比較、具有效率高 體積小。重量輕。壽命長(zhǎng)。維修簡(jiǎn)單,無噪聲等優(yōu)點(diǎn)。且防腐型整流設(shè)備可直接放在鍍槽旁、縮短了直流供電線路。方便電參數(shù)調(diào)節(jié)，既減少了電能損耗 亦節(jié)約了有色金屬.5。0。2 整流設(shè)備應(yīng)按鍍槽額定電壓 額定電流選擇,因?yàn)殄儾鬯璧碾妷阂暪に囈?guī)范，電解液成分和所取的電流密度不同而異、合理的電壓數(shù)值能保證電解過程正常進(jìn)行。而電流?；螂娏髅芏?。大小會(huì)直接影響電鍍的沉積過程 可控硅整流設(shè)備的額定電壓應(yīng)大于并接近鍍槽所需電壓、因?yàn)榭刂平窃龃?。交流成分隨之增加。某些鍍種電鍍質(zhì)量可能受影響，各種可控硅整流電路在不同控制角時(shí) 交流分量與直流分量的百分比，經(jīng)電阻負(fù)載、見表1，表1.可控硅整流電路交流分量與直流分量百分比 需沖擊電流的鍍槽、整流管 可控硅整流器容量按鍍槽額定電壓、沖擊電流值和整流器允許過載能力來選擇,整流設(shè)備的過載能力是指制造設(shè)備時(shí)的裕量及硅元件的過載能力,一般5s可過載2倍，5min可過載1。25倍 而需沖擊電流的鍍槽 沖擊電流持續(xù)時(shí)間均小于5min、當(dāng)整流設(shè)備過載能力無資料可查時(shí)、可按鍍槽電壓 沖擊電流值乘以系數(shù)0,8選擇整流設(shè)備容量.多槽.指2個(gè)及以上鍍槽。共用的整流設(shè)備應(yīng)按各槽額定電流之和乘以同時(shí)使用系數(shù)和負(fù)荷系數(shù)、一般可取0。8。0 9，但各行各業(yè)電鍍情況不同,應(yīng)根據(jù)具體情況確定，一些鍍種對(duì)整流波形尚有一定要求 為此，利用整流線路不同的結(jié)線方式獲得不同的輸出電流波形 如焦磷酸鹽光亮鍍銅可用單相半波,全波整流管或可控硅整流設(shè)備、無氰光亮鍍銅可采用可控硅整流設(shè)備。焦磷酸鹽鍍銅合金可采用可控硅整流設(shè)備或單相半波整流設(shè)備或單相全波整流設(shè)備加間歇性電流裝置。鍍鉻槽可采用整流管或可控硅雙反星形帶平衡電抗器整流設(shè)備或三相橋式整流設(shè)備，5,0，3.根據(jù)制造廠提供的資料，采用飽和電抗器調(diào)壓的整流管整流設(shè)備只能在額定負(fù)載的10，13。以上時(shí)才能調(diào)壓、本條考慮了各廠的生產(chǎn)要求不同 故規(guī)定為額定負(fù)載的30 以上使用飽和電抗器調(diào)壓.若負(fù)載在額定電壓的30，以下。就可能保證不了調(diào)壓要求，負(fù)載電流亦調(diào)不下去,因此 在電流調(diào)節(jié)精度高。同時(shí)經(jīng)常使用在額定負(fù)荷30、以下的低負(fù)荷鍍槽、宜采用自耦調(diào)壓器或感應(yīng)調(diào)壓器方式的整流管整流設(shè)備.5、0.4,按照不同鍍種采用相應(yīng)數(shù)值的恒定鍍槽電位是確保提高電鍍質(zhì)量的有效措施.可控硅整流設(shè)備附帶電流密度自動(dòng)控制環(huán)節(jié)在技術(shù)上可行.目前已有成品供應(yīng)、在可控硅整流設(shè)備上附設(shè)恒電位儀產(chǎn)品已在國(guó)內(nèi)幾個(gè)廠試驗(yàn)運(yùn)行達(dá)數(shù)年之久，操作工人反映、采用恒電位儀的可控硅整流設(shè)備后、再也不必按照鍍件的數(shù)量,鍍件面積大小頻繁地觀察表計(jì)來調(diào)節(jié)槽子的電流或電壓，不僅減輕了操作強(qiáng)度.亦提高了鍍件質(zhì)量.5.0。5、用整流設(shè)備作為電鍍電源，實(shí)現(xiàn)一臺(tái)整流設(shè)備供給一個(gè)鍍槽，方便了操作者調(diào)節(jié)鍍槽電流。滿足了單個(gè)鍍槽的特定工藝,提高了電鍍質(zhì)量 同樣亦節(jié)約了有色金屬和電能損耗 每個(gè)鍍槽電流不大。工藝上對(duì)電流控制沒有嚴(yán)格要求時(shí)。亦可采用一臺(tái)整流設(shè)備供給幾個(gè)鍍槽用電，以節(jié)省投資 兩個(gè)鍍槽位置相近、電壓相近 電流相差不大、可用一臺(tái)整流設(shè)備供給兩個(gè)不同時(shí)使用的鍍槽，整流設(shè)備與鍍槽中間增加倒換開關(guān)、這樣對(duì)整流設(shè)備及電鍍質(zhì)量沒有影響，5 0、6.當(dāng)一臺(tái)整流設(shè)備向一個(gè)鍍槽供電、且整流設(shè)備集中放置時(shí) 為便于操作和調(diào)節(jié) 應(yīng)在鍍槽附近設(shè)置電流調(diào)節(jié)裝置,測(cè)量?jī)x表和開停整流設(shè)備的控制按鈕.5,0.7,當(dāng)一臺(tái)整流設(shè)備向幾個(gè)鍍槽同時(shí)供電時(shí) 為避免相互影響或干擾.每個(gè)鍍槽旁應(yīng)設(shè)有電壓表,電流表 電流調(diào)節(jié)裝置、以便根據(jù)產(chǎn)品要求分別進(jìn)行調(diào)節(jié)。為了操作方便，鍍槽旁還可加裝整流設(shè)備的控制按鈕.5 0，9.為了檢修及運(yùn)行安全.每臺(tái)整流設(shè)備的供電線路、應(yīng)裝設(shè)隔離電器和短路保護(hù)電器，5、0。11.電源間盡可能接近負(fù)荷中心是為了節(jié)省有色金屬和降低電能損耗,電源間宜靠近外墻，為的是獲得通風(fēng)和采光的良好效果,電源間不應(yīng)布置在鍍槽。浴室，廁所等容易積水場(chǎng)所的正下方或與之貼鄰,是出于安全的考慮.為了電源間的安全 與電源間無關(guān)的管道不得通過 尤其是有腐蝕性氣體的抽風(fēng)系統(tǒng)管道不得穿過，5、0，13。酸性溶液鍍槽或堿性溶液鍍槽在電鍍過程中會(huì)散發(fā)出酸性或堿性蒸氣和飛沫.酸對(duì)大多數(shù)金屬及纖維質(zhì)絕緣都起腐蝕作用,堿對(duì)鋁和鋁合金有腐蝕作用，所以本條規(guī)定了在電鍍間內(nèi)的電氣設(shè)備 線路及金屬支架等應(yīng)采取防腐蝕措施，