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- 薄膜晶體管顯示器件玻璃基板生產(chǎn)工廠設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn) GB 51432-2020
- 條文說明
- 1 總 則
- 2 術(shù) 語
- 3 基本規(guī)定
- 4 工 藝
- 5 選址與總圖
- 6 建 筑
- 7 結(jié) 構(gòu)
- 8 氣體動(dòng)力
- 9 采暖、通風(fēng)、除塵、空氣調(diào)節(jié)與凈化
- 9.2 采暖、通風(fēng)、防排煙
- 9.3 除塵、熔爐煙氣處理系統(tǒng)
- 9.4 空氣調(diào)節(jié)與凈化
- 10 給水排水
- 11 電 氣
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9。3，除塵、熔爐煙氣處理系統(tǒng)9，3、3，除塵系統(tǒng)可以采用集中式，分散式或就地除塵系統(tǒng) 對(duì)于粉塵粒徑較大且粉塵產(chǎn)生量很大的設(shè)備 要求除塵系統(tǒng)集中維護(hù)管理的場(chǎng)合建議采用集中式除塵系統(tǒng).對(duì)于孤立偏遠(yuǎn)的塵源 建議采用就地式除塵系統(tǒng) 9,3,4.當(dāng)粉塵粒徑較大且濃度較高時(shí),建議采用袋式或?yàn)V筒式等干式除塵器、當(dāng)粉塵粒徑較小且濃度較低或總量較低時(shí)。建議采用過濾的形式 9.3。6。酸性廢氣處理設(shè)備的設(shè)置與生產(chǎn)原料有關(guān)系 若生產(chǎn)原料帶氯或其他酸氣、F,則系統(tǒng)要設(shè)置酸性廢氣處理設(shè)備,一般為噴淋設(shè)備、或半干式吸收塔、兩者須按實(shí)際情況選用,9，3 7，煙氣脫硝工藝一般含下列方案.常溫脫硝工藝 20.40,如化學(xué)洗滁.或臭氧，AOP。氧化還原，低溫脫硝工藝，80，120.如CSCR。中溫脫硝工藝、180，450,如SCR、高溫脫硝工藝。900,1050,如SNCR或HESNCR.9、3.8，本條對(duì)玻璃基板工廠熔爐廢氣收集系統(tǒng)風(fēng)管設(shè)計(jì)做了規(guī)定 1.熔爐排放的煙氣,計(jì)算運(yùn)行工況下收集系統(tǒng)內(nèi)煙氣體積流量，此時(shí)要考慮溫度引起煙氣體體積流量變化的情況.5、設(shè)立排水口是為了將風(fēng)管內(nèi)的冷凝水排出、排水口還要有一定斜度、如1.100或1.200.這也是有利冷凝水的排出，風(fēng)管的低點(diǎn)排水裝置所收集的酸性冷凝水排至相應(yīng)的廢水管網(wǎng)中,