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- 電磁波暗室工程技術(shù)規(guī)范 GB 50826-2012
- 1 總 則
- 2 術(shù) 語
- 3 基本規(guī)定
- 4 電磁波暗室分類
- 5 總體設(shè)計(jì)
- 6 工藝設(shè)計(jì)
- 7 吸波及電磁屏蔽工程設(shè)計(jì)
- 8 建筑與結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
- 9 公用工程設(shè)計(jì)
- 10 電磁屏蔽和吸波工程施工
- 11 工程驗(yàn)收
- 附錄A 單站雷達(dá)截面比較法
- 本規(guī)范用詞說明
- 引用標(biāo)準(zhǔn)名錄
- 條文說明
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- 辦公建筑設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)[附條文說明] JGJ/T 67-2019
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- 工業(yè)企業(yè)總平面設(shè)計(jì)規(guī)范[附條文說明] GB 50187-2012
附錄A.單站雷達(dá)截面比較法A,0、1，單站雷達(dá)截面比較法的測試原理及步驟應(yīng)包括下列內(nèi)容。1。應(yīng)根據(jù)測試頻段要求選取適當(dāng)直徑d、m、的金屬定標(biāo)球σs.dBm2、保證定標(biāo)球處于光學(xué)區(qū)內(nèi)。ka.πd,λ 10，2，將定標(biāo)球放置于暗室靜區(qū)中心處 采用矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀S21網(wǎng)絡(luò),校準(zhǔn)儀器 設(shè)置時(shí)域門中心和門寬。對定標(biāo)球進(jìn)行測量、得到接收機(jī)的輸出電壓Vs 取下定標(biāo)球.對暗室本身進(jìn)行測量、得到接收機(jī)的輸出電壓Vo 3、當(dāng)Vo Vs時(shí)、暗室殘余反射電平的雷達(dá)目標(biāo)散射面積σo應(yīng)按下式計(jì)算，σo.σs。20lg,Vo.Vs.dBm2,A，0,1，4，選取不同頻段的天線、使用相應(yīng)的頻段和極化.重復(fù)2和3步驟,便可完成暗室殘余反射電平σo、dBm2、的檢測、結(jié)果記錄在測試報(bào)告表中、A,0,2、測試系統(tǒng)儀表.設(shè)備配置應(yīng)包括下列內(nèi)容、1，型號(hào)矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀一套,2，標(biāo)準(zhǔn)角錐喇叭天線一套。增益為15dB.20dB，3,射頻低噪放大器一套.增益為20dB.25dB。4,金屬定標(biāo)球一套，5,激光測距儀一臺(tái)，直尺一套,低雷達(dá)目標(biāo)散射面積的散射支架一個(gè),6.數(shù)據(jù)處理系統(tǒng) 計(jì)算機(jī),打印機(jī)，一套，