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6,工藝設(shè)計6,0 1.不同暗室的體型尺寸差異大、各個功能性房間要求和組成不一、并且相對位置關(guān)系要求嚴格 因此,建筑設(shè)計平面布局應(yīng)以暗室為核心展開,既要保證暗室體型和尺寸要求,又要保證各功能性房間的相對位置關(guān)系要求.才能夠?qū)崿F(xiàn)暗室功能和技術(shù)性能,有利于運行操作安全,方便 建筑才能夠給暗室建設(shè)合理地支撐,6,0,3.主反射區(qū)是影響暗室靜區(qū)靜度的關(guān)鍵區(qū)域 如在主反射區(qū)開門,由于結(jié)構(gòu)原因、在門與墻壁處。既容易造成電磁波反射程度不一致的背景差異。又會增加反射程度。降低靜區(qū)靜度.6、0 6、當(dāng)暗室內(nèi)部有多套測量系統(tǒng)時 由于各測量系統(tǒng)設(shè)備之間的電磁耦合作用.會對測量造成相互間的干擾,因此。暗室體型尺寸應(yīng)留有空間隔離或其他隔離方式所需要的空間、避免因測量系統(tǒng)之間的較強耦合。造成測量不確定度的惡化。6,0 7 隨著電磁波入射角的增加 電磁波吸收材料吸收性能會下降,通過控制暗室內(nèi)壁寬度W和高度H。使電磁波在壁面上產(chǎn)生的反射不因入射角度過大,而有所快速明顯增加、6、0、11,1,2 1,3,2。2,3,1,3.2。4、1類暗室測量系統(tǒng)在高度方向布局需要考慮設(shè)備安裝的實際需求、
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