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- 電鍍廢水治理設(shè)計規(guī)范 GB 50136-2011
- 1 總 則
- 2 術(shù)語和符號
- 3 基本規(guī)定
- 4 鍍件的清洗
- 5 化學(xué)處理法
- 5．1 含氰廢水
- 5．2 含鉻廢水
- 5．3 含鎘廢水
- 5．4 混合廢水
- 6 離子交換處理法
- 7 電解處理法
- 8 內(nèi)電解處理法
- 9 污泥處理
- 10 廢水處理站設(shè)計
- 附錄A 鍍件單位面積的鍍液帶出量
- 附錄B 離子交換柱的設(shè)計
- 附錄C 電解槽設(shè)計
- 引用標準名錄
- 本規(guī)范用詞說明
- 條文說明
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5.3。含鎘廢水5 3 1,化學(xué)法處理含鎘廢水時、宜采用氫氧化物沉淀，廢水中鎘離子濃度不宜大于50mg。L.5。3,2，采用氫氧化物沉淀處理含鎘廢水時.其廢水中不得含有氰化物,5.3。3，化學(xué)法處理含鎘廢水可采用圖5、3.3的基本工藝流程,圖5，3 3,化學(xué)法處理含鎘廢水的基本工藝流程5 3、4，廢水反應(yīng)的pH值應(yīng)大于或等于11。反應(yīng)的時間宜為10min。15min、反應(yīng)池宜設(shè)置機械攪拌或水力攪拌,