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- 發(fā)光二極管工廠設(shè)計(jì)規(guī)范 GB 51209-2016
- 條文說明
- 1 總 則
- 2 術(shù) 語
- 3 基本規(guī)定
- 4 工 藝
- 4.1 一般規(guī)定
- 4.2 基本工序與生產(chǎn)協(xié)作
- 4.3 工藝區(qū)劃
- 4.4 設(shè)備布置
- 5 總 圖
- 6 建 筑
- 7 結(jié) 構(gòu)
- 8 動力及氣體工程
- 9 供暖、通風(fēng)、空氣調(diào)節(jié)與凈化
- 10 給水排水
- 11 電 氣
- 12 防靜電
- 13 空間管理
- 附錄C 發(fā)光二極管生產(chǎn)的典型工藝流程
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4、工 藝4、1,一般規(guī)定4 1.4，4,1，5、根據(jù)對國內(nèi)一些發(fā)光二極管生產(chǎn)工廠的生產(chǎn)環(huán)境要求，工藝動力品質(zhì)、氣體。水。要求的調(diào)研數(shù)據(jù),通過匯總和比較。在附錄A給出了主要工序生產(chǎn)環(huán)境要求舉例、在附錄B給出了工藝動力品質(zhì)要求舉例。在工藝設(shè)計(jì)時(shí)，業(yè)主或發(fā)包方未提出要求或暫時(shí)未提出要求時(shí) 可參照本規(guī)范附錄A，附錄B的要求確定.附錄A對于空氣潔凈度等級只給出一定的范圍供參考，比如對于烤盤。吹盤間，屬于設(shè)備維護(hù)用房間。可以放到非凈化區(qū)內(nèi)、但由于本規(guī)范所調(diào)研廠家出于設(shè)備維護(hù)方便方面的考慮,將其放置在與MOCVD間相鄰的房間內(nèi),因此對烤盤、吹盤間也采取了凈化措施、與此類似的還有MOCVD輔助間，該房間用于放置尾氣處理設(shè)備，氣體純化等輔助設(shè)備,這些設(shè)備本身不需要凈化環(huán)境.只是從易于調(diào)試及使用方面考慮.多數(shù)發(fā)光二極管生產(chǎn)工廠將其放置在與MOCVD間相鄰的房間內(nèi) 也對該房間采取了凈化措施，附錄B給出了工藝動力品質(zhì) 氣 水 要求舉例 根據(jù)選取的工藝設(shè)備不同。其對于動力品質(zhì)的要求會有差別.對于研磨.切割用純水，所調(diào)研發(fā)光二極管生產(chǎn)工廠采用的純水的電阻率為4MΩ cm。此水質(zhì)可以滿足工藝生產(chǎn)要求，4。1、6，本條主要考慮發(fā)光二極管生產(chǎn)工廠的生產(chǎn)多為大批量生產(chǎn)。從節(jié)約能源方面考慮,主要生產(chǎn)車間的生產(chǎn)設(shè)備宜采用連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)的方式,其他輔助生產(chǎn)車間。如原輔材料庫等.可以根據(jù)生產(chǎn)的要求配套，