10 2,系統(tǒng)設(shè)計(jì).處理流程及方法10、2、1 當(dāng)窯爐有兩個(gè)廢氣出口時(shí)、宜分別設(shè)置排氣系統(tǒng) 10。2、2。窯爐生產(chǎn)設(shè)備廢氣出口與生產(chǎn)廢氣收集總風(fēng)管應(yīng)分別設(shè)置壓力控制系統(tǒng),10,2 3,生產(chǎn)廢氣收集及處理設(shè)施應(yīng)主要包括廢氣收集 電,氣動(dòng)閥門(mén)、降溫設(shè)施.酸性廢氣處理設(shè)備、除塵設(shè)備.脫硝設(shè)備。自動(dòng)控制系統(tǒng) 化學(xué)品供應(yīng)系統(tǒng),風(fēng)機(jī)、風(fēng)管 10、2,4。當(dāng)廢氣中含有少量的氯.氟 硫.砷等有害物質(zhì)時(shí) 宜在蒸發(fā)冷卻塔噴淋液中加入堿或其他還原劑,10、2、5、廢氣進(jìn)入噴淋冷卻塔前宜采用室外空氣降溫。且降溫后廢氣相對(duì)濕度不宜超過(guò)10。10。2 6,廢氣脫硝可采用20。60,的常溫脫硝,80,120.的低溫脫硝,180.450 的中溫脫硝及800,1100。的高溫脫硝等方式,脫硝設(shè)計(jì)應(yīng)符合下列規(guī)定 1。常溫脫硝宜采用化學(xué)洗滌、或臭氧氧化還原法,AOP,2,低溫脫硝宜采用活性焦炭逆流式選擇性催化還原法 CSCR。也可采用化學(xué)洗滌,或臭氧氧化還原法.AOP.3 中溫脫硝宜采用選擇性催化還原法、SCR.4、高溫脫硝宜采用選擇性非催化還原法。SNCR?;蚋咝нx擇性非催化還原法。HESNCR。10.2。7、當(dāng)生產(chǎn)堿性玻璃時(shí).不應(yīng)采用中溫選擇性催化還原法,SCR.10,2.8,當(dāng)采用催化還原法去除廢氣中的氮氧化物時(shí)、氨的逃逸率不應(yīng)超過(guò)8mg、m3,