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4,工藝及工藝設(shè)備4.1、一般規(guī)定4 1,1、根據(jù)電子工業(yè)工藝加工性質(zhì)，主要有酸性廢氣，堿性廢氣、揮發(fā)性有機物 VOCs 廢氣.含塵廢氣,特種廢氣 玻璃窯爐廢氣 表1是電子工業(yè)典型生產(chǎn)工序排出的廢氣類別.表2是典型生產(chǎn)工序排出廢氣的主要成分，4、1.2，企業(yè)要優(yōu)先采用清潔生產(chǎn)技術(shù)、工藝和設(shè)備.采用無毒,無害或者低毒。低害的原料.替代毒性大，危害嚴重的原料,優(yōu)先使用低氟材料 企業(yè)要根據(jù)生產(chǎn)工藝.化學(xué)品使用清單,有毒有害物質(zhì)清單等進行分析論證,符合清潔生產(chǎn)指標要求 達到較高的清潔生產(chǎn)水平,同時、限制使用有害的化學(xué)品是全球的發(fā)展趨勢,企業(yè)需承擔(dān)社會責(zé)任 要符合，中國禁止或嚴格限制的有毒化學(xué)品名錄 等相關(guān)限制性規(guī)定。4 1.3 當生產(chǎn)過程中使用含砷烷。磷烷。乙硼烷.鉛蒸氣，汞蒸氣和氰化物等極毒。劇毒物質(zhì)時,一般是由生產(chǎn)廠家提供相關(guān)數(shù)據(jù) 在環(huán)境評價階段完成物料平衡計算.控制排放量。4 1、4,半導(dǎo)體集成電路和平板顯示生產(chǎn)過程中，化學(xué)氣相淀積.干法刻蝕等工序使用的具有全球變暖潛能，GWP，的氟化合物，包括全氟化合物.四氟化碳、CF4.六氟乙烷 C2F6、八氟丙烷、C3F8,八氟環(huán)丁烷.c，C4F8、三氟化氮,NF3。六氟化硫，SF6.三氟甲烷.CHF3 和氫氟碳化物 HFCs。等 4、1。5,根據(jù)排放廢氣的種類和性質(zhì) 集中布置工藝設(shè)備 以便廢氣集中收集 4、1,6,考慮當有毒有害氣體發(fā)生泄漏事故時 事故排風(fēng)系統(tǒng)的有效性以及事故排風(fēng)系統(tǒng)和相對應(yīng)的廢氣處理系統(tǒng)的規(guī)模，有毒有害氣體的泄漏速率要控制在一定的范圍內(nèi).所以在有毒有害氣體的供應(yīng)源頭.即儲罐出口處需裝設(shè)流量限制閥 實際工程中有毒有害氣體儲罐出口裝設(shè)的最大流量為30L.min的限流閥.既能符合生產(chǎn)供應(yīng)要求。又能很好地控制發(fā)生事故時的有毒有害氣體泄漏速率,