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4 工藝及工藝設(shè)備4，1，一般規(guī)定4,1.1，根據(jù)電子工業(yè)工藝加工性質(zhì),主要有酸性廢氣。堿性廢氣.揮發(fā)性有機(jī)物。VOCs.廢氣.含塵廢氣,特種廢氣。玻璃窯爐廢氣,表1是電子工業(yè)典型生產(chǎn)工序排出的廢氣類別,表2是典型生產(chǎn)工序排出廢氣的主要成分。4、1、2，企業(yè)要優(yōu)先采用清潔生產(chǎn)技術(shù)、工藝和設(shè)備、采用無毒。無害或者低毒.低害的原料.替代毒性大 危害嚴(yán)重的原料，優(yōu)先使用低氟材料。企業(yè)要根據(jù)生產(chǎn)工藝.化學(xué)品使用清單、有毒有害物質(zhì)清單等進(jìn)行分析論證。符合清潔生產(chǎn)指標(biāo)要求.達(dá)到較高的清潔生產(chǎn)水平、同時(shí)。限制使用有害的化學(xué)品是全球的發(fā)展趨勢,企業(yè)需承擔(dān)社會責(zé)任。要符合、中國禁止或嚴(yán)格限制的有毒化學(xué)品名錄,等相關(guān)限制性規(guī)定，4、1.3,當(dāng)生產(chǎn)過程中使用含砷烷、磷烷。乙硼烷,鉛蒸氣.汞蒸氣和氰化物等極毒,劇毒物質(zhì)時(shí) 一般是由生產(chǎn)廠家提供相關(guān)數(shù)據(jù),在環(huán)境評價(jià)階段完成物料平衡計(jì)算?？刂婆欧帕俊?.1。4.半導(dǎo)體集成電路和平板顯示生產(chǎn)過程中,化學(xué)氣相淀積,干法刻蝕等工序使用的具有全球變暖潛能。GWP、的氟化合物.包括全氟化合物、四氟化碳 CF4、六氟乙烷.C2F6 八氟丙烷 C3F8,八氟環(huán)丁烷、c C4F8。三氟化氮、NF3。六氟化硫,SF6。三氟甲烷 CHF3、和氫氟碳化物、HFCs,等,4，1 5、根據(jù)排放廢氣的種類和性質(zhì)，集中布置工藝設(shè)備,以便廢氣集中收集，4 1.6?？紤]當(dāng)有毒有害氣體發(fā)生泄漏事故時(shí)。事故排風(fēng)系統(tǒng)的有效性以及事故排風(fēng)系統(tǒng)和相對應(yīng)的廢氣處理系統(tǒng)的規(guī)模。有毒有害氣體的泄漏速率要控制在一定的范圍內(nèi) 所以在有毒有害氣體的供應(yīng)源頭,即儲罐出口處需裝設(shè)流量限制閥 實(shí)際工程中有毒有害氣體儲罐出口裝設(shè)的最大流量為30L，min的限流閥.既能符合生產(chǎn)供應(yīng)要求 又能很好地控制發(fā)生事故時(shí)的有毒有害氣體泄漏速率、