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10，2。系統(tǒng)設(shè)計(jì)，處理流程及方法10，2。1 兩個(gè)廢氣出口一個(gè)為起爐煙氣出口，另一個(gè)為生產(chǎn)煙氣出口。起爐煙氣為各窯爐烘爐或起爐空氣燃燒時(shí)排出的煙氣。生產(chǎn)煙氣為生產(chǎn)時(shí)因物料熔融而產(chǎn)生的煙氣 起爐煙氣一般不含有害物質(zhì),而生產(chǎn)煙氣含有有害物質(zhì)，所以一般分別設(shè)置排氣系統(tǒng)、10,2、2。規(guī)定本條目的在于使窯爐生產(chǎn)設(shè)備內(nèi)部和煙氣系統(tǒng)均保持穩(wěn)定的工作壓力，窯爐生產(chǎn)設(shè)備廢氣出口通常為微負(fù)壓，該壓力對生產(chǎn)效率有很大的影響。10 2、4.由于各電子玻璃的生產(chǎn)廠的配方不同 產(chǎn)生的煙氣成分都不同。因而所采用的處理方法也有不同.采用噴淋設(shè)備 半干式吸收塔處理酸性廢氣為一般采用的方法.若有氮氧化物的產(chǎn)生 其處理方法按第10,2,6條的說明。10、2.5，廢氣的降溫在電子玻璃行業(yè)中有兩個(gè)方法,即室外冷空氣降溫和噴淋降溫、采用何種方法取決于采用的生產(chǎn)原料是否有吸濕的情況，如硼 砷等，脫硝效率與濕度成反比 過高的濕度容易引起處理設(shè)備及風(fēng)管中產(chǎn)生結(jié)晶，所以需確保降溫后廢氣的相對濕度不超過10 10.2 6，本條規(guī)定了廢氣脫硝的方式.1 常溫脫硝一般采用化學(xué)洗滌、或臭氧 AOP。氧化還原工藝等方法,但因產(chǎn)生廢水、產(chǎn)生水溶化合物的再處理問題 及廢氣氮氧化物濃度高等情況,在電子玻璃煙氣中很少采用.2、當(dāng)采用CSCR方案時(shí)。脫硝設(shè)備包括。氨水外部升溫氣化設(shè)備 氨水與廢氣混合設(shè)備，廢氣升溫設(shè)備，由60，80。提升到100,120.脫硝反應(yīng)塔。含觸媒、氨逃逸監(jiān)控。氮氧化物監(jiān)控,觸媒回收設(shè)備等 4 當(dāng)采用SNCR或HESNCR方案時(shí).脫硝設(shè)備包括,含氨水外部升溫氣化設(shè)備，氨水與廢氣混合設(shè)備.除灰設(shè)備、脫硝反應(yīng)設(shè)備 氨逃逸監(jiān)控,氮氧化物監(jiān)控儀表等 常用的脫硝方式見表10 10 2、7,本條規(guī)定是考慮因硼粉塵與氨結(jié)晶會毒化催化劑及產(chǎn)生催化劑氧化問題 10 2，8、本條規(guī)定氨的逃逸率不超過8mg.m3依據(jù)現(xiàn)行行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)、火電廠煙氣脫硝工程技術(shù)規(guī)范。選擇性非催化還原法，HJ。563,脫硝系統(tǒng)設(shè)計(jì)時(shí)要采取控制氨氣泄漏的措施 防止二次污染.氨的逃逸率不超過8mg m3、同時(shí)廠界氨氣的濃度符合現(xiàn)行國家標(biāo)準(zhǔn).惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)。GB,14554的規(guī)定、