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3 2,生產(chǎn)環(huán)境設(shè)計要求3.2、1.在現(xiàn)行國家標(biāo)準(zhǔn).潔凈廠房設(shè)計規(guī)范，GB、50073.2001中等同采用國際標(biāo)準(zhǔn).潔凈室及相關(guān)受控環(huán)境第一篇。ISO,14644、1中有關(guān)潔凈室及相關(guān)受控環(huán)境空氣中懸浮粒子潔凈度級別劃分 3，2 2,3,2。3，電子產(chǎn)品的種類繁多 隨著微型化,精密化、高純度,高質(zhì)量和高可靠的電子產(chǎn)品品種的增加。需要在空氣懸浮粒子受控環(huán)境中進行全過程生產(chǎn)或部分生產(chǎn)的電子產(chǎn)品主要有 各種半導(dǎo)體材料及其器件生產(chǎn) 集成電路生產(chǎn) 化合物半導(dǎo)體生產(chǎn)，光電子生產(chǎn).薄膜晶體管液晶顯示器、Thin.Film、Transistor Liguid Crystal.Display、簡稱TFT,LCD 生產(chǎn)。微硬盤驅(qū)動器。Hard。Disk,Driver，簡稱HDD.生產(chǎn)、等離子顯示器,Plasma Display,Panel 簡稱PDP，生產(chǎn),磁頭和磁帶生產(chǎn)。光導(dǎo)纖維生產(chǎn),印制電路板等，各類產(chǎn)品的品種不同 生產(chǎn)工藝不同。所要求的空氣潔凈度等級也不相同，因此第3，2、2條規(guī)定各種電子產(chǎn)品用潔凈廠房設(shè)計時.生產(chǎn)環(huán)境的空氣潔凈度等級應(yīng)根據(jù)生產(chǎn)工藝要求確定，當(dāng)在設(shè)計時，業(yè)主或發(fā)包方未提出要求或暫時未提出要求時 可參照本規(guī)范附錄A的要求確定、在附錄A所列要求中.由于各種產(chǎn)品生產(chǎn)工藝都各不相同。所以對于空氣潔凈度等級、控制粒徑均列出一定的范圍供參考 為說明這些差異、下面列舉一些工程的實例供參考,1,表4,表6分別列出8 和4,5、硅單晶及硅片加工 集成電路的芯片制造，TFT.LCD生產(chǎn)所需的空氣潔凈度等級.溫度、濕度的實例,2 微硬盤驅(qū)動器，HDD。生產(chǎn)用潔凈廠房濺射生產(chǎn)區(qū)4級、組裝，測試等6級、3.高密度磁盤生產(chǎn)用潔凈廠房,4，表7。表8分別列出彩色顯像管生產(chǎn)、光導(dǎo)纖維生產(chǎn)所需的空氣潔凈度等級。溫度、濕度的實例、5 磁頭生產(chǎn)用潔凈廠房。磁頭裝配、濺射燒結(jié)等要求4級 0，1μm。研磨 檢測等要求5級，0 1μm，切割等要求6級 6。印制電路板生產(chǎn)用潔凈廠房 6.5級,24 2 65、5,7，鋰電池生產(chǎn)的干作業(yè)潔凈生產(chǎn)區(qū).6級 23.露點,DP。30.組裝。測試潔凈室 區(qū)。7級 23。2 20。8。等離子顯示器、PDP.生產(chǎn)用潔凈廠房、涂屏間等.5。5級.25,2，50，10 其他生產(chǎn)間、6。5、8級 20 26.55。10 3。2。4。現(xiàn)代電子產(chǎn)品生產(chǎn)的重要特點之一 在許多電子產(chǎn)品的生產(chǎn)過程中需使用高純水.高純氣體和高純化學(xué)品、且各類電子產(chǎn)品生產(chǎn)時、因品種不同 產(chǎn)品生產(chǎn)工藝也不同,對高純物質(zhì)的純度,雜質(zhì)含量的要求不同,它們之間差異很大,表9是中國電子級水的技術(shù)指標(biāo),表10是美國ASTMD5127電子及半導(dǎo)體工業(yè)用純水的水質(zhì)要求,表11是TFT,LCD生產(chǎn)用純水水質(zhì)要求.表12是一個8、集成電路芯片制造用高純水水質(zhì)要求，3。2，5.近年來，對一些電子工廠的潔凈室。區(qū),內(nèi)的噪聲級.空態(tài)、的檢測資料表明。大部分單向流潔凈室 區(qū)、內(nèi)的噪聲均可小于65dB，A 也有少數(shù)潔凈室、區(qū).由于各種原因。實際檢測的噪聲超過65dB、A 非單向流潔凈室,區(qū) 內(nèi)的噪聲大部分可小于60dB A 表16是部分電子工廠潔凈室、區(qū)，內(nèi)噪聲的檢測數(shù)據(jù).