5,9.化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)5,9、1?;瘜W(xué)機(jī)械拋光機(jī)的安裝應(yīng)符合下列規(guī)定,1,應(yīng)通過調(diào)節(jié)四個地腳高度來調(diào)平拋光臺.2,拋光廢液回收處理及處理后排放管道應(yīng)與廠房的排污系統(tǒng)連接 5.9、2、化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)的調(diào)試及試運(yùn)行應(yīng)符合下列規(guī)定、1。應(yīng)準(zhǔn)備好拋光液。長度、寬度為100mm。100mm的待拋光專用測試樣片、并將循環(huán)水及拋光液饋入系統(tǒng) 廢液處理系統(tǒng)應(yīng)工作正常。2.應(yīng)在拋光頭及拋光臺相應(yīng)位置粘上反射薄膜。應(yīng)用非接觸式轉(zhuǎn)速表對準(zhǔn)反射薄膜測試并調(diào)節(jié)拋光頭及拋光臺的轉(zhuǎn)速。3.壓力以0,005MPa為一檔時,應(yīng)依次將拋光頭壓力從0,005MPa調(diào)到0、05MPa 應(yīng)觀測壓力傳感器測量值。測試結(jié)果應(yīng)滿足設(shè)備技術(shù)要求 4。清洗待拋光基片、并應(yīng)固定到拋光臺上,5,應(yīng)設(shè)置拋光壓力。拋光轉(zhuǎn)速,拋光液滴注流量,運(yùn)行拋光程序 6.應(yīng)在磨拋后的樣片磨拋面上取五個大小分別為0、3mm,0 3mm的點(diǎn)域、應(yīng)用原子力顯微鏡測出這五個局部點(diǎn)的粗糙度 然后應(yīng)計(jì)算平均值。所測各點(diǎn)的粗糙度與平均值相比較時,允許偏差應(yīng)為 3。7、應(yīng)以樣片中心為厚度采樣測試點(diǎn)并測量磨拋前,后的樣片厚度、磨拋時應(yīng)啟動終點(diǎn)檢測功能 并應(yīng)將磨拋前 后的樣片厚度測量值進(jìn)行比較.過拋光厚度應(yīng)小于50nm。